Pulsed Plasma를 사용하는 Etching, Deposition 등의 공정에서
실제 Pulse 파형이 정확히 유지되고 있는가를 실시간 Monitoring
하는 광학 센서
특장점
√ Time Resolution : 1 micro second ! √ 1~20kHz 범위의 Pulsed Plasma Repetition Rate 측정 √ 챔버 외부 Viewport에서 측정하므로 공정에 영향을 끼치지 않는 안전한 방식 √ 간편한 설치. 도입 및 유지비용 저렴
Customer Benefits
√ Improve production yield-rate √ Separate sensing, not affect the process √ Optimized solution for HW/SW to detect plasma fault √ Easy and simple to build in low cost
System Configuration
1. Chamber Viewport에 장착되는 Sensor Module의 Lens를 통해 광신호 수신 2. 광신호를 전기적 신호로 변환 3. A/D 변환하여 PC로 TCP/IP 고속 전송 4. PC에 설치된 Nano2PM S/W를 통해 Pulse Plasma의 파형 분석
Specification
Category
Item
Description
Optic
Lens Module
2” Optics
Sensor
Si Photodiode
Spectral Range
350~1100nm
Electric
Pulse Frequency Measuring Range
1~20kHz
Time Resolution
1μs
A/D Resolution
16bit
Sensor Rising Time
10ns
Sensor Active Area
13㎟ (3.6 x 3.6mm)
Power Input
220VAC (via Power Adapter)
Power Requirement
DC7V 7W
Connector (4pin Tiny QG)
Male Connector, DSP Board Power Supply
Connector (Ethernet TCP/IP)
10 Base-TX/100 Base-TX RJ-45 Interface 1 port, cable auto detect
Mechanic
Material (Body)
Anodized Aluminum
Dimension
108(W) x 110(H) x 140(D) mm
Weight
~0.9kg
Software
O/S
Microsoft Windows (.Net Framework 4.0)
Sensor Connection Count
1 ~ 2
Function
Rising/Falling Time, Pulse-on/off Time, Period, Frequency, Peak/Average Value etc
Main Function
1. Pulse 파형 출력 - 고속으로 Pulse 파형을 읽어 들여 화면 출력 - 시간축 조정 Knob로 다양한 주파수의 파형을 원하는 형태로 관찰 - Trigger 기능에 의한 파형 정지 모드로 보다 세밀하게 파형 관찰
2. Pulse 파형 분석 - 고속으로 모든 Pulse 파형을 분석하여 9개의 Monitoring Parameter 값 산출 - Monitoring Parameter 값으로 Pulse Plasma의 균일성 품질 판단 - 이상 신호 감지시 Alarm 발생
① Rising Time ③ Pulse-on Time ⑤ Period ⑦ Peak Value = Period 내 최대값 ⑨ Duty Rate = Period 내 Pulse-on 유지비율
② Falling Time ④ Pulse-off Time ⑥ Frequency = Period의 역수 ⑧ Average Value = Period내 평균값
3. Multi Screen View
1) General View
- Pulse 파형 분석 Algorithm에서 산출된 9개 Monitoring Parameter의 실시간 Trend 확인
2) Detail View
- 실시간 Pulse 파형을 Micro하게 관찰하고 이상 신호의 발생 비율을 통계적으로 확인
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