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나노텍 SPOES System은 detector 내부에 소형 plasma chamber가 있어 공정 챔버로부터 유입된 gas를 방전시키고, gas 방전에 의한 방출된 빛을 분광기(Spectrometer)를 통해 모니터 및 분석하는 장비이다.
SPOES로 유입된 Gas의 성분 및 압력 등의 변화에 의해 빛의 파장(Wavelength)은 변화하고 이를 실시간으로 모니터 함으로써 공정상의 변화를 감지할 수 있다.

Chamber SPOES 구성
1 chamber 1controller+1detector
2 chamber 1controller+2detector
3 chamber 1controller+3detector
4 chamber 1controller+4detector
Leak detection
In-situ process monitor
Fault detection
Cleaning/Seasoning optimization


ITEM DESCRIPTIONS
방전 개시 압력 5mT~3.0T (@fore-line)
ICP plasma source Max. 30W
Optical window Sapphire
CCD sensor 2,048 pixels / 16 bits
Spectral range 200~850nm (UV to NIR)
Spectral resolution <0.5nm
별도 pumping 필요 없음
통신 프로토콜 RS232, Digital I/O, SECS
Detectors/Controller Max. 4
Vacuum interface ISO NW16 (Reducer 활용가능)
Power requirement 110/220VAC, 50/60Hz, 3A
운영 체제 Window 2000/XP
운영 프로그램 AOS (AEGIS Operating Software)
크기 Detector 127(W)X65(H)X231(D) [mm]
Controller 380(W)X132.6(H)X253.2(D) [mm]
무게 Detector 약 1.5 [kg]
Controller 약 7.1 [kg]