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전자신문 보도자료 (2011.8.24)
이름 (주)나노텍 이메일 nanotek@nanotek.com
작성일 2011-08-25 조회수 5042
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23일 한국표준과학연구원서 열린 제5회 반도체 공정진단 워크숍에서는 업체가 만든 반도체 공정 장치와 시스템이 전시돼 관심을 끌었다.

이날
반도체 공정진단 센서 전문기업 나노텍 (대표 차동호)은 플라즈마 발생 기술과 스펙트럼 분석 기술을 접목한 차세대 센서(SPOES)를 선보였다. 이 센서는 자체 플라즈마 방전이 가능한 챔버를 갖고 있어 공정장비에 영향을 주지 않으면서도 진단이 가능하다. 압력범위도 넓고 오염에 강한 것이 특징이다.

 증착장비 전문업체 브이티에스(대표 정원호)는 진공게이지 교정 기술 및 시스템을 선보였다. 이 기술은 실험가스와 장비운용에 필요한 공압을 내장해 별도의 가스라인 연결없이 진공 상태를 측정, 교정할수 있다. 이동형으로 제작해 실시간 현장 측정이 가능한 것이 장점이다.

 한양대 벤처기업 피앤에이 솔루션즈(대표 정진욱 한양대 전기공학과 교수)는 플라즈마 진단 모니터링 기술을 공개했다. 이 기술은 반도체와 디스플레이 공정 플라즈마 장비를 실시간 모니터링하면서 식각, 증착 불량공정 개선을 통해 수율을 획기적으로 향상시킬 수 있다. 2차원 플라즈마 진단기술은 기판 위에서 플라즈마 균일도를 실시간으로 볼 수 있다.

 정진욱 교수는 “삼성전자와 LG전자, 하이닉스 등 반도체 및 태양광 등의 업체로부터 관심을 받고 있다”며 “일부 장비는 빌트 인 작업을 진행 중”이라고 말했다.
 
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